導(dǎo)讀:本文報(bào)道了一種超薄、超堅(jiān)固、超柔和熱穩(wěn)定性好的薄膜,具有類(lèi)似金屬的機(jī)械性能,即前所未有的拉伸強(qiáng)度(300.5 MPa),高楊氏模量(13.6 GPa)和出色的耐折性(> 10000次)。更重要的是,這種復(fù)合膜具有出色的電磁波屏蔽效果,可以消除> 99%的電磁波。在軍事、航空航天領(lǐng)域的電子設(shè)備中的實(shí)際應(yīng)用以及可穿戴設(shè)備應(yīng)用有很大前景。
隨著電子設(shè)備的普及和通信技術(shù)的飛速發(fā)展,電磁輻射被視為一個(gè)嚴(yán)重的問(wèn)題,不僅危害設(shè)備的正常運(yùn)行和使用壽命,而且對(duì)人體健康也有害。因此,電磁屏蔽材料的研究引起了廣泛的關(guān)注。金屬材料具有超高的堅(jiān)固性和優(yōu)異的導(dǎo)電性,是電磁干擾(EMI)屏蔽的傳統(tǒng)選擇,而其高密度,較差的柔韌性和差的抗腐蝕性能已經(jīng)限制了其廣泛使用,尤其是在惡劣的環(huán)境中。二維(2D)過(guò)渡金屬碳化物/碳氮化物(即MXene)被認(rèn)為是有前途的EMI屏蔽替代產(chǎn)品,具有輕量級(jí)特性,高電導(dǎo)率和優(yōu)異的耐腐蝕性。然而,由于相鄰的二維(2D)MXene納米片之間較弱的平面內(nèi)范德華相互作用,其宏觀組裝結(jié)構(gòu)結(jié)合較弱,這也導(dǎo)致了薄膜的脆性,在某些極端環(huán)境下,這仍然是其潛在應(yīng)用的瓶頸。通常,用于極端條件EMI屏蔽的理想保護(hù)材料應(yīng)集成所有突出的多功能功能,包括高穩(wěn)固性、良好的柔性性、耐溫性和耐腐蝕性等,這仍然非常具有挑戰(zhàn)性。
針對(duì)上述問(wèn)題,來(lái)自四川大學(xué)和南京理工大學(xué)的研究人員通過(guò)將蠕蟲(chóng)狀的芳族聚酰胺納米纖維(ANF)設(shè)計(jì)成棒狀的微觀結(jié)構(gòu),然后與Ti3C2Tx自組裝形成分層的實(shí)體結(jié)構(gòu),報(bào)道了一種超薄、超堅(jiān)固、超柔和熱穩(wěn)定性好的薄膜。棒狀A(yù)NF的剛性對(duì)稱(chēng)對(duì)稱(chēng)芳環(huán)完全伸直在骨架中很好地堆積成結(jié)晶形式,使桿狀A(yù)NF能夠增強(qiáng)網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)并有效消散能量,從而產(chǎn)生類(lèi)似金屬的機(jī)械性能,即前所未有的拉伸強(qiáng)度(300.5 MPa),高楊氏模量(13.6 GPa)和出色的耐折性(> 10000次)。更重要的是,這種MXene/ANF復(fù)合膜具有出色的EMI屏蔽效果(8814.5 dB cm2 g –1),阻燃性可在?100°C(355 MPa)至300°C(136 MPa)的溫度范圍內(nèi)執(zhí)行廣泛的操作,可以消除> 99%的電磁波;這保證了其在某些極端條件下的潛在EMI屏蔽應(yīng)用。相關(guān)工作以“Metal-Level Robust, Folding Endurance, and Highly Temperature-Stable MXene-Based Film with Engineered Aramid Nanofiber for Extreme-Condition Electromagnetic Interference Shielding Applications”為題發(fā)表在著名期刊《ACS Appl. Mater.Interfaces》上。
論文鏈接: https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.0c07387
圖1顯示了MXene/棒狀A(yù)NF復(fù)合膜的典型制備過(guò)程。首先,通過(guò)在HCl和LiF的混合溶液中從MAX粉末中選擇性刻蝕Al層,然后進(jìn)行超聲處理,來(lái)合成寡層MXene納米片,TEM圖像顯示成功從MAX顆粒上剝離了橫向尺寸大但具有幾層構(gòu)象的MXene納米片。
圖1. MXene/棒狀A(yù)NF復(fù)合膜的制備過(guò)程示意圖。(a)MXene納米片的蝕刻和剝落,ANF從蠕蟲(chóng)狀到剛性棒狀構(gòu)型的設(shè)計(jì),以及真空過(guò)濾制備的MXene/ANF復(fù)合膜。(b)MAX顆粒的SEM圖像,MXene納米片的TEM圖像以及MAX和MXene納米片的XRD圖。(c)蠕蟲(chóng)狀A(yù)NF和剛性棒狀A(yù)NF的SEM圖像以及純剛性棒狀A(yù)NF膜和MXene/ANF復(fù)合膜的數(shù)碼照片
圖2. MXene/ANF復(fù)合膜的力學(xué)性能測(cè)試
隨著MXene含量的增加,MXene/ANF樣品的機(jī)械性能迅速下降。尤其是對(duì)于原始的MXene膜而言,較差的機(jī)械性能太弱而無(wú)法應(yīng)用,由于相鄰的MXene納米片之間的范德華相互作用較弱,其拉伸強(qiáng)度僅為11.0±2.1 MPa,并且斷裂斷裂為1.1±0.2%。當(dāng)MXene含量為40 wt%時(shí),可以實(shí)現(xiàn)MXene/ANF復(fù)合膜的最佳機(jī)械性能,包括300.5±10.1 MPa的拉伸強(qiáng)度,13.6±1.3 GPa的楊氏模量,3.0±0.4%的應(yīng)變斷裂,韌性為5.3±0.7 MJ m–3。
MXene納米片作為一種優(yōu)良的導(dǎo)電填料,具有良好的導(dǎo)電性,并通過(guò)在基體內(nèi)部沿基面方向形成有效的連續(xù)導(dǎo)電通路,在很大程度上提高了導(dǎo)電性。隨著MXene/ANF復(fù)合膜中MXene含量的增加,復(fù)合膜的電導(dǎo)率無(wú)疑得到了提高。隨著MXene含量的增加,更多的微波傾向于被屏蔽和吸收,并成功構(gòu)建了導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò),在8.2至12.4 GHz(X波段)的頻率范圍內(nèi)也顯示出出色的EMI屏蔽性能(24.5 dB)和不錯(cuò)的屏蔽效率(99.65%)。
圖3.(a)MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜的橫截面SEM圖像。(b)MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜的同步和(c)不同步2D相關(guān)FTIR光譜。(d)純棒狀A(yù)NF膜,原始MXene膜和MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜的XRD圖。(e)MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜的表面SEM圖像和EDS圖。(f)MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜的緩慢拉伸過(guò)程后的典型斷裂形態(tài)。(g)拉伸過(guò)程中MXene/ANF =40:60復(fù)合膜的示意圖
圖4 (a)具有不同含量的MXene納米片的復(fù)合膜的電導(dǎo)率。(b)MXene納米片含量不同的復(fù)合膜在整個(gè)X波段的EMI屏蔽性能。(c)具有不同MXene納米片含量的復(fù)合膜在12.4 GHz頻率下的SET,SEA,SER和SEA/SET值。(d)具有不同形態(tài)的一維ANF的MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜的EMI屏蔽性能。(e)在整個(gè)X波段厚度不同的MXene/ANF =40:60復(fù)合膜的EMI屏蔽性能。(f)將SSE/t值作為厚度的函數(shù)與同類(lèi)材料進(jìn)行比較。(g)電磁波跨MXene/ANF = 40:60復(fù)合膜傳輸?shù)氖疽鈭D
總的來(lái)說(shuō),通過(guò)ANF的微觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)成功地制備了超薄、超柔韌性、金屬級(jí)堅(jiān)固且極其穩(wěn)定的MXene/ANF復(fù)合膜。更重要的是,納米復(fù)合膜具有廣泛的工作溫度范圍(-100至300 °C),抗張強(qiáng)度范圍為355至136 MPa,同時(shí)EMI屏蔽性能保持穩(wěn)定。簡(jiǎn)而言之,這些優(yōu)異的綜合機(jī)械性能,出色的EMI屏蔽性能以及在廣泛的工作溫度范圍內(nèi)均具有出色的適應(yīng)性,證明MXene/ANF復(fù)合膜在軍事、航空航天領(lǐng)域的電子設(shè)備中的實(shí)際應(yīng)用以及可穿戴設(shè)備應(yīng)用有很大前景。
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